Standard No.:	GB/T 34174-2017
English Name:	Surface chemical analysis--Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation
Chinese Name:	表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
Chinese Classification:	G04    Basic standards and general methods
Professional Classification:	GB    National Standard
ICS Classification:	71.040.40 71.040.40    Chemical analysis 71.040.40
Source Content Issued by:	AQSIQ; SAC
Issued on:	2017-09-07
Implemented on:	2018-8-1
Status:	valid
Target Language:	English
File Format:	PDF
Word Count:	10500 words
Translation Price(USD):	310.0
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对表面分析用的工作参考物质（WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50 mm的抛光（或类似磨面)基片（也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素（也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为10��16� atoms/cm�2至10��13� atoms/cm�2（即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质（SeRM)硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。