Standard No.:	GB/T 45721.1-2025
English Name:	Semiconductor devices—Stress migration test—Part 1: Copper stress migration test
Chinese Name:	半导体器件 应力迁移试验 第1部分：铜应力迁移试验
Chinese Classification:	L40    Semiconductor discrete devices in general
Professional Classification:	GB    National Standard
ICS Classification:	31.080.01 31.080.01    Semiconductor devices in general 31.080.01
Source Content Issued by:	SAMR; SAC
Issued on:	2025-05-30
Implemented on:	2025-9-1
Status:	valid
Target Language:	English
File Format:	PDF
Word Count:	14500 words
Translation Price(USD):	435.0
Delivery:	via email in 1~5 business day

本文件规定了一种恒温老化方法，该方法用于试验微电子晶圆上的铜(Cu)金属化测试结构对应力诱生空洞(SIV)的敏感性。该方法将主要在产品的晶圆级工艺开发过程中进行，其结果将用于寿命预测和失效分析。在某些情况下，该方法能应用于封装级试验。由于试验时间长，此方法不适用于产品批次性交付检查。
双大马士革铜金属化系统通常在蚀刻到介电层的沟槽的底部和侧面具有内衬，例如钽(Ta)或氮化钽(TaN)。因此，对于单个通孔接触下面宽线的结构，通孔下方空洞引起的阻值漂移达到失效判据规定的某一百分比时，将会瞬间导致开路失效。